12月14日，微导纳米(688147.SH)开启申购，发行价格为24.21元/股，申购上限为0.75万股，属于上交所科创板，浙商证券(601878)为其独家保荐人。

微导纳米以原子层沉积(ALD)技术为核心，主要从事先进微、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产和销售，向下游客户提供先进薄膜沉积设备、配套产品及服务。 自成立以来，公司已在微、纳米级薄膜沉积核心技术领域具有丰富的技术积累。

公司将基础研发与行业应用紧密结合，以下游客户的实际需求为导向，产品率先用于光伏电池片生产过程中的薄膜沉积环节。在成功将ALD技术应用于光伏领域后，公司开发了对技术水平和工艺要求更高的半导体薄膜沉积设备，并实现了国产ALD设备在28nm集成电路制造关键工艺(高介电常数栅氧层材料沉积环节)中的突破。此外，公司已与多家国内半导体厂商及验证平台签署了保密协议并开展产品技术验证等合作，针对国内半导体薄膜沉积各细分应用领域研发试制新型ALD设备。

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报告期内，公司产品率先用于光伏电池片生产过程中的薄膜沉积环节，已覆盖包括通威太阳能(000591)、隆基股份(601012)、晶澳太阳能、阿特斯、天合光能等在内的多家知名太阳能电池片生产商。2018年，公司的光伏领域夸父(KF)原子层沉积设备被评定为“江苏省首台(套)重大装备产品”。目前，公司应用于TOPCon新型高效电池生产线的产品已在客户现场验证。

在此基础上，公司继续深化开发薄膜沉积技术在下一代光伏电池、半导体各细分应用(集成电路、先进存储等)、柔性电子等应用领域的技术和产品储备，并已在下游行业多家知名公司进行产品验证。

同时，公司是国内少数能在短期内快速反馈并协助客户解决产线上ALD技术问题的设备厂商之一，具备承担下一代光伏电池设备和高端先进制程半导体设备项目的技术储备和人才基础。技术研发方面，公司在原子层沉积反应器设计技术、高产能真空镀膜技术、真空镀膜设备工艺反应气体控制技术、纳米叠层薄膜沉积技术、高质量薄膜制造技术、工艺设备能量控制技术、基于原子层沉积的高效电池技术等前沿科技领域持续构筑和强化技术壁垒。

在光伏领域，公司目前ALD量产设备镀膜速率已经突破10,000片/小时。镀膜效果以沉积Al2O3薄膜进行测量，其薄膜厚度均匀度达到片内不均匀性≤3%、片与片之间不均匀性≤3%、批与批之间不均匀性≤3%。公司产品具备优良的产能提升能力与产品性能，在保障光电转换效率的同时，有效帮助下游电池片厂商大幅降低了设备投资额与生产消耗成本。

在半导体领域，公司是国内首家成功将量产型High-k原子层沉积设备应用于28nm节点集成电路制造前道生产线的国产设备公司。设备总体表现和工艺关键性能参数达到国际同类水平，并已获得客户重复订单认可，成功解决了一项半导体设备“卡脖子”难题。除此之外，公司已经开展在半导体其他细分领域以及柔性电子领域中的应用。

财务方面，于2019年度、2020年度、2021年度及2022年上半年，微导纳米实现营业收入分别约为2.16亿元、3.13亿元、4.28亿元及1.56亿元人民币；净利润分别约为5455.11万元、5701.44万元、4611.37万元及-3925.03万元人民币。

据招股书显示，本次募集资金总额扣除发行费用后，拟全部用于公司主营业务相关的项目及主营业务发展所需资金，具体如下：

另外，公司后续将加大ALD技术在新型高效电池、半导体等领域应用推广的投入力度，若公司不能提供更好的发展空间、更具市场竞争力的薪酬待遇以及更适合的研发条件，将无法持续吸引相关领域的顶尖人才加盟，公司将面临技术人才不足的风险。在行业高速发展、国产替代趋势加快的大背景下，甚至有可能发生现有核心技术人员流失的情形，对公司的产品研发与盈利能力产生不利影响。

关键词： 薄膜沉积 不均匀性 集成电路